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浏览次数:143 时间:2020-03-27

  射频等离子体蚀刻机Quorum K1050X可能用于应用反响气体(比方CF 4) 去除硅层□□□,以及用于应用氧气去除光刻胶。 等离子灰化是指派用氧气或气氛对有机资料实行可控的低温去除□□□,其遍及运用于讨论和质料负责范畴。RF等离子还可用于塑料和纠合物的外观改性-以及洁净TEM和SEM样品以及样品支架。

  Quorum K1050X RF等离子桶式反响器安排用于等离子蚀刻□□□,等离子灰化和等离子洁净运用。

  射频等离子体可对各类样品和基板实行低温装束。等离子体蚀刻寻常仅限于半导体行业□□□□□,由于Quorum K1050X可能用于应用反响气体(比方CF4)去除硅层□□□□,以及用于应用氧气去除光刻胶。

  等离子灰化是指派用氧气或气氛对有机资料实行可控的低温去除□□□□□,其遍及运用于讨论和质料负责范畴。RF等离子还可用于塑料和纠合物的外观改性-以及洁净TEM和SEM样品以及样品支架。

  K1050X是一款摩登的固态RF等离子桶式反响器□□□,旨正在满意遍及众样的等离子蚀刻□□□,等离子灰化和等离子洗涤运用的研发和小批量临盆的需求。

  K1050X RF等离子桶式反响器通过谨慎安排□□□,可能继承多量应用-每天24小时处置某些等离子灰化企图-具有微处置器负责和自愿操作效用□□□□,并具有耐用性和操作简洁性。各向同性(各个宗旨)的桶式体例等离子刻蚀或等离子灰化□□□□,实用于遍及的运用。

  K1050X应用低压射频感觉出现的气体放电来以轻柔□□□□□,1974年等离子蚀刻机可控的方法装束样品外观或去除样品资料。与替换办法比拟的一个显着上风是等离子蚀刻和灰化历程是干燥的(不须要湿化学药品)□□□□□,而且正在相对较低的温度下实行。

  应用众种工艺气体□□□□,可能应用众种外观改性办法。应用氧气(或气氛)动作工艺气体□□□,分子了解为化学活性原子和分子□□□□,而且所出现的“燃烧”产品可通过真空体例便利地正在气流中带走。

  K1050X的直径为110毫米x 160毫米的硼硅酸盐玻璃室秤谌装配□□□,带有滑出式样品抽屉和考查窗。通过可选的50 L / m呆滞挽救真空泵可能抽空腔室。反响性气体的进入由两个内置电磁流量计负责的内置流量计负责。

  留神□□□:对付须要避免应用硼硅酸盐玻璃的等离子蚀刻运用□□□□□,K1050X可能装备可选的石英腔(EK4222)。

  可供给正在13.56 MHz时高达100 W的RF功率□□□□,可能无穷地负责RF功率并将其预设为所需值。自愿调动正向和反射功率是准则筑设□□□□,并显示正在数字显示屏上。1974年等离子蚀刻机

  K1050X是全自愿的。年华□□□□,功率和真空度的负责参数易于预设□□□,而且可能正在扫数历程中实行看守和调动。

  等离子历程中□□□□□,“自愿调谐”效用可确保RF功率自愿与体例或负载的任何转移实行阻抗配合。这意味着将腔室内的RFplasma前提保留正在*佳形态-这很首要□□□□,由于它可能加疾反适时间□□□□□,提升结果的可反复性□□□□□,并正在RF周期内保卫电源。

  K1050X仅须要增添指定的挽救泵。出于安适由来□□□□□,当等离子蚀刻运用涉及应用氧气动作工艺气体时□□□□□,出于安适由来□□□□,激烈倡议应用Edwards RV3 Fomblinized挽救泵(参睹EK3176)。正在须要避免应用油基挽救泵的地方□□□,1974年等离子蚀刻机可能选取干式抽气(请参阅□□□:订购新闻)。

  对付须要更洁净真空处境的等离子蚀刻和等离子洁净运用□□□□,K1050XT具有内置的涡轮分子泵

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